Een paar niet-opgevangen deeltjes of gasmoleculen kunnen bij sommige processen zeer ernstige gevolgen hebben. Stelt u zich eens voor welke schade vervuilde lucht zou kunnen toebrengen aan de productie van halfgeleiders, harde schijven en andere zeer gevoelige processen.
Bij de productie van halfgeleiders vereisen geavanceerde productiemethoden een zeer schone luchttoevoer, waarbij de eisen op het gebied van zuiverheid voortdurend toenemen. De kritische deeltjesgrootte voor de waferomgeving ligt nu onder de 25 nm (2009) en er worden voorspellingen gedaan dat deze grootte in 2017 zal blijven krimpen richting 10 nm. Moleculaire besmetting via de lucht (AMC) is nu een groot probleem voor alle geavanceerde micro-elektronische fabrieken. Er is een breed scala aan AMC-effecten waargenomen die de productieopbrengst beïnvloeden. Er is bijvoorbeeld aangetoond dat zure corrosie van harde schijven of wafers, condenseerbare organische afzetting op gevoelige oppervlakken of blootstelling aan lage niveaus van ammoniak verschillende processtappen beïnvloeden.
Het hart van de cleanroom zijn de filters, maar er zijn een aantal overwegingen met betrekking tot de classificatie van de ruimte, de filterkeuze en de manier waarop filters de omgeving beïnvloeden.
SAF is goed gepositioneerd om de beste oplossing aan te bevelen voor geavanceerde deeltjes- en AMC-controle dankzij meer dan 16 jaar ervaring op het gebied van micro-elektronica en halfgeleiderverontreinigingscontrole, en door onze betrokkenheid bij de International Technology Roadmap for Semiconductors.
HEPA-, ULPA- en moleculaire filters worden geproduceerd in gecontroleerde omgevingen in de ISO 9000-gecertificeerde fabrieken van SAF. We kunnen hetzelfde type filters op meerdere productielocaties produceren. Onze grote productiecapaciteit garandeert de beschikbaarheid van onze producten te allen tijde over de hele wereld.
Beschermen:
-
Wafers en halfgeleiders
-
Micro-elektronische procesapparatuur
-
Harde schijven
-
Printplaten
-
Platte beeldschermen
-
Zonnepanelen